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      技術(shù)文章

      真空井式坩堝爐詳細(xì)參數(shù)及原理

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      本設(shè)備是由石英坩堝(或氧化鋁陶瓷坩堝)和不銹鋼法蘭組成的真空坩堝爐。主要用于煅燒真空或惰性氣體保護(hù)下的高純度化合物或擴(kuò)散半導(dǎo)體晶片,也可用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料。

      真空井式坩堝爐參數(shù)說(shuō)明

      型號(hào)

      AFD-1200T

      AFD-1400T

      AFD-1700T

      工作溫度

      >1200℃

      >1400℃

      >1700℃

      加熱元件

      電阻絲

      硅碳棒

      硅鉬棒

      熱電偶

      K型

      S型

      B型

      控溫方式

      31段可編程自動(dòng)控制,PID調(diào)節(jié)控溫度

      升溫速率

      0-10℃

      0-20℃

      控溫度

      ±1℃

      大真空度

      -0.1MPa

      爐膛材料

      氧化鋁陶瓷纖維板

      爐殼

      雙層爐殼,風(fēng)冷結(jié)構(gòu)(爐底安裝兩個(gè)散熱風(fēng)扇),爐殼表面溫度低于60度

      額定功率

      1KW—8KW

      常用爐膛尺寸

      Φ240xH220mm;Φ40xH300mm;Φ60xH300mm;

       Φ80xH300mm;Φ100xH300mm;Φ120xH300mm

      聯(lián)


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